發布時間：2026年04月11日 14:08 來源：中國新聞網
4月10日，浙江大學極端光學技術與儀器全國重點實驗室在杭州舉辦成果發布會，宣布成功研發萬通道3D納米激光直寫光刻機，為超分辨光刻、光子芯片制造、高端掩模版加工等領域提供關鍵技術支撐。
據悉，該激光直寫光刻機的加工精度可達亞30納米，加工速率可達42.7平方毫米/分鐘，最大刻寫尺寸覆蓋12 英寸硅片，為大面積微納結構的高通量、高精度制造提供了新途徑。(吳君毅 莊蕙語)
責任編輯：【羅攀】
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